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什么是化學發光 化學發光有哪些應用
化學發光也就是化學法剛分析法，分子發光光譜分析法中的一類，它主要是依據化學檢測體系中待測物濃度與體系的化學發光強度在一定條件下呈線性定量關系的原理，利用儀器對體系化學發光強度的檢測，而確定待測物含量的一種痕量分析方法。化學發光與其它發光分析的本質區別是體系產生發光 ( 光輻射 ) 所吸收的能量來源不同。體系產生化學發光，必須具有一個產生可檢信號的光輻射反應和一個可一次提供導致發光現象足夠能量的單獨反應步驟的化學反應。
化學發光有哪些應用
化學發光Western雜交檢測，是同位素檢測的一種高度靈敏的替代方法。酶標記抗體取代了放射性標記抗體， 當它作用于底物時，可產生光信號。多數特異抗原檢測方法以辣根過氧化物酶(HRP)或堿性磷酸酶(AP)二級抗體耦聯物為基礎。信號可通過感光膠片或專用的成像設備來采集。化學發光底物用于免疫印跡技術已有十幾年的歷史，目前大部分實驗室做轉印時都會采用化學發光技術進行檢測。
隨著冷CCD化學發光檢測技術的發展，現在越來越多的實驗室都開始采用冷CCD的凝膠成像系統進行化學發光的檢測，膠片成像雖然比自然發光法靈敏度更高，但也有很多缺點：耗時，需要暗房，顯影劑和膠片，膠片較貴且為需持續購買的消耗品。同時由于膠片的線性范圍較窄，因此用膠片上的條帶(特別是表達量較低的條帶)進行定量幾乎不可能。冷CCD技術與X膠片相比具有瞬時影像處理、高靈敏度和高分辨率、動力范圍廣等優點，因此能對條帶進行精確定量。當然這項技術要求底物能產生高強度長持續時間的信號，以保證信號能被冷CCD的凝膠成像系統捕獲。在這方面多家公司都提供了相應的化學發光底物或試劑盒，化學發光成像系統，底物可產生高強度的持續光信號24小時，因此用戶可以進行多次曝光，最低可檢測至10-19mol，能得到得到高質量的印記信號。
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